자석 레이저 청소 워크스테이션

자기 레이저 청소는 고정밀, 고효율 표면 청소 공정입니다. 레이저 기술을 사용하여 청소할 표면에 고에너지 레이저 빔을 집중시켜 고온 및 고압을 즉시 생성하여 표면 부착물을 빠르게 휘발시키거나 벗겨내어 청소 목적을 달성합니다.

자석 레이저 청소 기술은 기름, 먼지, 오물, 산화물 및 부식 생성물을 포함한 다양한 유형의 오염 물질을 제거할 수 있습니다. 기존의 세척 방법과 비교하여 자석 레이저 세척은 세척 속도가 빠르고 세척 효과가 우수하며 표면 품질이 손상되지 않는다는 장점이 있습니다.

이 장비는 QYCL-FP 레이저 클리닝 기계, 정밀 포지셔너, Z축 초점 거리 조정 메커니즘, 클램핑 툴링, 로딩 및 언로딩 장치, 고도의 자동화, 우수한 효과, 넓은 적용 범위 및 저렴한 비용을 사용합니다.

자기 레이저 청소 기술은 항공, 자동차, 전자, 야금 및 기타 분야에서 널리 사용되어 왔으며 제조, 수리, 유지 보수 및 가공에서 중요한 역할을 합니다.